半導體清洗機產業(yè)是現(xiàn)代電子工業(yè)的核心，而半導體產業(yè)的基礎是硅材料工業(yè)。雖然有各種各樣新型的半導體材料不斷出現(xiàn)，但 90%以上的半導體器件和電路，尤其是超大規(guī)模集成電路（ULSI）都是制作在高純優(yōu)質的硅單晶拋光片和外延片上的。
　　硅片清洗對半導體工業(yè)的重要性早在50年代初就已引起人們的高度重視，這是因為硅片表面的污染物會嚴重影響器件的性能、可靠性、和成品率。隨著微電子技術的飛速發(fā)展以及人們對原料要求的提高，污染物對器件的影響也愈加突出。
　　20世紀70年代在單通道電子倍增器基礎上發(fā)展起來一種多通道電子倍增器。微通道板具有結構簡單、增益高、時間響應快和空間成像等特點，因而得到廣泛應。它主要應用于各種類型的像增強器、夜視儀、量子位置探測器、射線放大器、場離子顯微鏡、超快速寬頻帶示波器、光電倍增器等。
　　微通道板是一種多陣列的電子倍增器,是微光像增強器的核心部件。MCP的制作工藝周期長且復雜,表觀疵病是制約MCP成品率的關鍵因素之一。
　　在MCP的工藝制造過程中,不可避免遭到塵埃、金屬、有機物和無機物的污染。這些污染很容易造成其表面缺陷及孔內污垢,產生發(fā)射點、黑點、暗斑等,導致MCP的良品率下降,使得管子質量不穩(wěn)定以至失效,因此在MCP的制造過程中利用超聲波清洗技術去除污染物十分重要。
　　標簽：半導體清洗機