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半導體專用單槽式超聲波清洗機的產(chǎn)品特點： 　　1、電腦數(shù)字化薄膜面板開關(guān)，操作簡單； 　　2、具有自動程序記憶功能，工作模式任意切換； 　　3、正常長期工作模式、頻率顯示工作模式、時間設(shè)定工作…

基本所上所有的半導體元器件加工過程上都擁有這一種清理流程，作用是完全清除元器件接觸面的顆粒物、高分子化合物、無機化合物等空氣污染物，以確保產(chǎn)品質(zhì)量問題。等離子清理機工藝技術(shù)的顯著性引發(fā)了人們的非常大…

隨著半導體技術(shù)的不斷發(fā)展,對工藝技術(shù)的要求越來越高,特別是對半導體圓片的表面質(zhì)量要求越來越嚴,其主要原因是圓片表面的顆粒和金屬雜質(zhì)沾污會嚴重影響器件的質(zhì)量和成品率,在目前的集成電路生產(chǎn)中,由于圓片表…

隨著半導體技術(shù)不斷微縮，集成電路制造工藝正變得越來越復雜，往往需要經(jīng)過幾百甚至上千道的工藝步驟。 　　1、激光清洗是非接觸式的，可以通過光導纖維傳輸，與機器人或者機械手聯(lián)合，方便地實現(xiàn)遠距離操作，…

半導體等離子表面處理儀，是一種全新的高科技技術(shù)，利用等離子體來達到常規(guī)清洗方法無法達到的效果。 　　（1） 優(yōu)化引線鍵合（打線），微電子器件的可靠性有決定性影響，采用等離子清洗機有效去除鍵合區(qū)內(nèi)表…

1、汽車生產(chǎn)制造清洗模具，對汽車塑料制件進行去毛刺，噴漆等 　　2、印刷行業(yè)主要清洗墨錕，和在印刷過程中的雜色，墨跡等 　　3、機械行業(yè)主要清洗設(shè)備油污和灰塵，零部件的去毛刺，去除油漆等 　　…

等離子清洗機中常用的工藝氣體包括氧氣、氬氣、氮氣、壓縮空氣、氫氣、四氟化碳等。它利用氣體電離產(chǎn)生的等離子體對工件表面進行處理。不同的工藝氣體會被用來達到佳的處理效果，那么等離子清洗機中常用的工藝氣體…