等離子清洗機和超聲波清洗機的主要區(qū)別等離子清洗是干式清洗，超聲波清洗是濕法清洗，在經(jīng)過等離子清洗以后，被清洗物體已經(jīng)很干燥，不必再經(jīng)干燥處理即可送往下道工序。

　　等離子清洗在完成清洗去污的同時，還能改變材料本身的表面性能，如提高表面的潤濕性能，改善膜的附著力等，這在許多應(yīng)用中都是非常重要的。

　　雖然等離子清洗機表面上比超聲波清洗機更加智能化，但是還有很多缺點需要提示，比如放電氣壓高帶來的問題是等離子體局域化比較嚴重，縱深清洗比較差，不利于多層面的大尺度的清洗處理，而且微波電磁場對電子元器件多少會有一定電磁輻射作用，有可能會造成電子元器件的擊穿損傷，后就是設(shè)備造價高，維修保養(yǎng)不是很方便。

　　標簽：半導體清洗機